Advanced Gate Stack, Source/Drain, and Channel Engineering for Si-Based CMOS: New Materials, Processes, and Equipment 2005: Proceedings Of The International Symposium

Advanced Gate Stack, Source/Drain, and Channel Engineering for Si-Based CMOS: New Materials, Processes, and Equipment 2005: Proceedings Of The International Symposium

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Dec 1, 2005 · Inglês · Capa dura (634 páginas)
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