Advanced Gate Stack, Source/Drain and Channel Engineering for Si-Based CMOS 5; New Materials, Processes and Equipment; Proceedings: Advanced Gate Stac

Advanced Gate Stack, Source/Drain and Channel Engineering for Si-Based CMOS 5; New Materials, Processes and Equipment; Proceedings: Advanced Gate Stac

V. Narayanan
Noch keine Bewertungen
Englisch · Gebundene Ausgabe (353 Seiten)
Zum Regal hinzufügen

Bewerte dieses Buch

Buchjournal exportieren

Buchdetails

Format Gebundene Ausgabe
Seiten 353
Sprache Englisch
Verlag Electrochemical Society
ISBN-10 1566777097
ISBN-13 9781566777094
Zum Regal hinzufügen

Bewerte dieses Buch

Buchjournal exportieren