Advanced Gate Stack, Source/Drain and Channel Engineering for Si-Based CMOS 5; New Materials, Processes and Equipment; Proceedings: Advanced Gate Stac

Advanced Gate Stack, Source/Drain and Channel Engineering for Si-Based CMOS 5; New Materials, Processes and Equipment; Proceedings: Advanced Gate Stac

V. Narayanan
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Inglés · Tapa dura (353 páginas)
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Formato Tapa dura
Páginas 353
Idioma Inglés
Editorial Electrochemical Society
ISBN-10 1566777097
ISBN-13 9781566777094
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