Advanced Gate Stack, Source/Drain and Channel Engineering for Si-Based CMOS 5; New Materials, Processes and Equipment; Proceedings: Advanced Gate Stac

Advanced Gate Stack, Source/Drain and Channel Engineering for Si-Based CMOS 5; New Materials, Processes and Equipment; Proceedings: Advanced Gate Stac

Inga betyg ännu
Engelska · Inbunden (353 sidor)
Lägg till på hyllan

Betygsätt denna bok


Exportera bokjournal

Bokdetaljer

Format Inbunden
Sidor 353
Språk Engelska
Förlag Electrochemical Society
ISBN-10 1566777097
ISBN-13 9781566777094
Lägg till på hyllan

Betygsätt denna bok


Exportera bokjournal