Advances in Research and Development: Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications

Advances in Research and Development: Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications

هنوز رتبه‌بندی نشده است
Nov 14, 1997 · انگلیسی · کیندل (311 صفحات)
به قفسه اضافه کنید

به این کتاب امتیاز دهید


صدور دفتر کتاب

جزئیات کتاب

فرمت کیندل
صفحات 311
زبان انگلیسی
منتشر شده Nov 14, 1997
ناشر Academic Press
ISBN-10 0080542905
ISBN-13 9780080542904

توضیحات

Significant progress has occurred during the last few years in device technologies and these are surveyed in this new volume. Included are Si/(Si-Ge) heterojunctions for high-speed integrated circuits, Schottky-barrier arrays in Si and Si-Ge alloys for infrared imaging, III-V quantum-well detector structures operated in the heterodyne mode for high-data-rate communications, and III-V heterostructures and quantum-wells for infrared emissions.
به قفسه اضافه کنید

به این کتاب امتیاز دهید


صدور دفتر کتاب